（《澳纽网》综合编译报道）
随着人工智能技术对更小、更复杂半导体芯片的需求持续攀升，全球两大芯片制造巨头——台积电和三星——已承诺采用荷兰ASML公司最新推出的High NA EUV（高数值孔径极紫外）光刻设备，用于下一代先进制程芯片的生产。
ASML是全球领先的光刻系统供应商，其设备是制造高端芯片不可或缺的核心工具。此次两家行业巨头决定引入High NA EUV技术，标志着半导体制造领域向更先进节点迈进的又一关键步骤。High NA EUV设备能够实现更高的分辨率，帮助芯片制造商在硅片上刻画出更精细的电路图案，从而提升芯片性能并降低功耗。
业界分析指出，人工智能应用的爆发式增长，尤其是大模型训练和推理对算力的巨大需求，正在加速芯片制造商对尖端制造设备的投资。台积电和三星作为全球晶圆代工市场的两大主导者，其技术路线选择对产业链上下游具有重要影响。
目前，两家公司尚未公布具体的设备部署时间表或量产计划，但这一承诺表明，它们正积极为未来数年的先进制程竞争做准备。ASML的High NA EUV设备预计将首先应用于2纳米及以下节点的研发与试产。
业内观察人士认为，随着High NA EUV技术的逐步普及，全球半导体制造格局可能进一步向头部企业集中，而设备供应链的战略地位也将更加凸显。
来源：International: Top News And Analysis
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