（《澳纽网》综合编译报道）
据《南华早报》科技版报道，中国半导体工厂近年来大量采购浸没式光刻设备，引发美国方面呼吁进一步收紧出口管制。
华盛顿研究机构“技术与国家治国中心”（Centre for Technology & Statecraft，简称CTS）于今年8月成立，并在9月下旬发布了一份报告。报告指出，根据前美国官员的说法，中国半导体工厂近年来积累了数百台浸没式光刻机，价值数十亿美元。
报告估计，截至2026年初，中资晶圆厂已获得约343套浸没式深紫外（DUV）光刻系统。这些设备由荷兰ASML公司生产，是制造先进芯片的关键工具。
前美国官员敦促华盛顿及其盟友切断进一步的对华出口。他们认为，中国大规模囤积此类设备可能削弱现有出口管制措施的效果，因此有必要实施更全面的禁令。
该报告由CTS发布，报告作者包括多位前美国官员。报告的核心观点是，中国在浸没式DUV光刻机上的储备规模已相当可观，若不及时采取行动，现有管制框架将难以有效限制中国获取先进半导体制造能力。
浸没式DUV光刻系统是生产成熟制程和部分先进制程芯片的核心设备。近年来，美国已多次收紧对华半导体设备出口限制，但浸没式DUV设备此前仍在部分许可范围内可对华出口。CTS的报告试图以数据说明，中国已利用现有许可窗口大量采购此类设备。
目前，美国及其盟友尚未就全面禁止浸没式DUV光刻机对华出口作出正式决定。行业观察人士指出，若进一步收紧管制，将对全球半导体供应链产生深远影响。
来源：Tech – South China Morning Post
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